当前位置：首页-> 热门 ->内容

群贤毕至，共襄盛会——IWAPS2025诚邀投稿！

发布时间：2025-06-22 20:52 来源：证券之星阅读量：14539

第九届国际先进光刻技术研讨会

-IWAPS 2025-

第九届国际先进光刻技术研讨会将于10月14-15日在深圳隆重举行！本次研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟(深芯盟)、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴！

国际先进光刻技术研讨会，依托中国创新沃土，搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下，在全球企业、高校、协会等的共同推动下，IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术等全产业链的尖端技术对话平台。

本届盛会特别依托深芯盟的产业集群优势，汇聚深圳及湾区半导体企业、高校与科研机构的协同力量；同时联动湾芯展的产业生态资源，为全球领军企业提供展示创新蓝图的舞台，为科研院所搭建核心技术攻关的交流通道，为青年学者创造技术思辨的活跃氛围，更为投资机构提供洞察粤港澳大湾区半导体机遇的前瞻窗口。

第九届IWAPS计划于

2025年10月14-15日于深圳举行

请于10月13日报到

欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导，积极投稿演讲

SPIE成立于1955年，是一个致力于光学和光电子学的国际专业组织。总部位于美国华盛顿州贝灵厄姆，SPIE的使命是推进光学和光电子技术的科学、应用、教育和商业。SPIE每年举办多个国际会议和展览，为科学家、工程师和企业提供展示最新研究成果和技术的平台。此外，SPIE Digital Library是全球最大的光学和光电子学文献数据库之一，提供了丰富的学术期刊、会议论文集和书籍，覆盖光学、光电子学、激光技术、生物医学光学等领域。这些资源和活动不仅促进了全球光学和光电子学的发展，也推动了创新技术的应用和专业人才的培养。

-征稿范围-

i. Optical Lithography

ii. Emerging Patterning Technologies

iii. Metrology, Inspection and Testing

iv. Computational Lithography

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Process

-征稿要求-

摘要要求

摘要必须清楚地描述论文的性质、研究主题、研究内容、组织结构、要点以及研究意义。且用英文撰写。

摘要必须包括以下内容:论文标题、关键词、作者的姓名、所属单位、邮件地址和通讯地址。摘要的字数不应超过500个单词。对研究内容的细节的描述将增加稿件被接收的可能。同时，我们强烈建议在提交的摘要中使用图表。